2026-08-07
В данной статье рассматриваются микрочиповые лазеры в методах восстановления краев фоторезиста, сравниваются химические и оптические методы электронно-лучевой реставрации. Особое внимание уделяется УФ-лазерам с длиной волны 355 нм для точного удаления краевых валиков, что повышает выход годной продукции, а также представлено решение для полупроводниковой литографии с использованием отечественного лазера.





















































































