7 de agosto de 2026
Este artículo explora los láseres de microchip en la reparación de bordes de fotorresistencias, comparando los métodos químicos y ópticos de reparación por emisión de borde (EBR). Destaca los láseres UV de 355 nm para la eliminación precisa de rebordes en los bordes, mejorando el rendimiento, e introduce una solución láser nacional para la litografía de semiconductores.






