2026년 8월 7일
이 논문은 포토레지스트 에지 복구에 사용되는 마이크로칩 레이저를 살펴보고, 화학적 및 광학적 EBR(Electro-Bed Repair) 방법을 비교합니다. 특히 정밀한 에지 비드 제거를 통해 수율을 향상시키는 355nm UV 레이저를 중점적으로 다루며, 반도체 리소그래피에 적용 가능한 국내산 레이저 솔루션을 소개합니다.






